Ausrüstung

Chemie-Nassbänke

Photolithographie Linie

JSM-T200

Jeol Raster-Elektronen- Mikroskop

Tencor P10

Oberflächen-Profilometer

SB-6

Substrat Bonder

ATV PEO 603

Hochtemperaturofen

TePla 300 E

Plasmaprozessor

Nikon Optiphot-150S

Lichtmikroskop

MA6/BA6

Mask- und Bondaligner Doppelseitig

RC 5 GY

Lackschleuder

HMDS

HMDS

BLE D020 E

Lackschleuder

STS ICP

Plasmaätzsystem (Inductive Coupled Plasma)

STS RIE

Plasmaätzsystem (Reactive Ion Etching)

DELVOTEC 5425

Draht-Wedge-Bonder

SET TC520

Wafer-Teststation

ESEC 8003

Wafersäge

Waferritzer

Waferritzer

Edwards E306

Aufdampf- und Sputteranlage

Gefriertrockner

Gefriertrockner